德国达姆施塔特, 2021年7月 28日 –- 全球领先的科技公司默克日前宣布推出新一代环保精密清洗溶剂产品  — AZ^® 910 去除剂。该系列产品用于半导体芯片制造图形化工艺中清除光刻胶。

光刻胶去除是半导体芯片制造图形化环节中的关键技术，而光刻胶去除剂则是决定图形化最终良率及可靠性的关键材料之一。默克此次推出的“AZ^® 910 去除剂”基于不含有NMP(N-甲基吡咯烷酮)的新型特制化学配方，不仅可以快速溶解残留光刻胶，同时具备超高的经济性、出色的环保性和广泛的适用性。

该创新产品可直接溶解负性和正性光刻胶，而并非像传统NMP清洗剂那样只能将其从晶圆表面剥离。清洗工艺能因此能缩短近一半时间，同时延长相关材料和过滤设备的使用寿命，从而帮助芯片厂商降低总体成本。

默克半导体材料事业部全球负责人Anand Nambiar表示：“这是一种同时具备了环保性和经济性的创新解决方案，将更好地满足下一代半导体制造工艺中精密清洗需求。这款AZ^® 910去除剂能够以不到三倍的溶剂用量清除光刻胶，在为晶圆厂节省成本的同时也减少了废料对环境的影响。”

高纯度去除剂在芯片制造过程正发挥着十分重要的作用。每当各种材料被转移到硅片上后，都需要将硅片表面不需要的残留物精密清除。随着芯片制造工艺不断微型化，整个行业对更高性能且绿色环保去除剂的需求也在与日俱增。默克是全球半导体去除剂市场的重要成员之一，其研发的溶剂产品涵盖了半导体光刻工艺的所有步骤。此外，凭借在电子材料领域100多年的专业经验，默克目前为中国大陆100多家芯片制造企业供应着超过150余种材料产品，覆盖其晶圆加工的每一个环节。